最近创联净化做了2个订单，都是半导体纯水设备的采购，那今天小编就跟大家讲讲半导体纯水设备的的一些情况，首先半导体行业的生产加工过程与水的使用密不可分，这就要求水质到达一定的生产使用指标，其中不可含有任何的离子杂质。这就需要电子半导体超纯水设备将水中的导电介质去除，再将水中的胶体物质、气体和有机物去除。我们使用电导率和电阻率来表示超纯水的纯度。

目前，我国电子工业部把电子级水质标准分为五个标准（18MΩ·CM、15MΩ·CM、10MΩ·CM、2MΩ·CM、0.5MΩ·CM）以区分不同的水质。创联净化不断的完善技术，随着科技研发手段的提高，新的工艺代替传统工艺，您可以根据您所需的水质要求选择适合您的工艺流程。

半导体纯水设备的工艺流程大致如下：

半导体工业纯水设备常采用的水处理工艺是电去离子EDI系统：

电去离子也就是常说的EDI，EDI系统采用的是一种离子交换技术，子交换膜技术和离子电迁移技术相结合的纯水制造技术。

最新的水处理工艺流程(≥18MΩ.CM)：

原水预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象。

传统的水处理工艺流程(≥18MΩ.CM)：

原水预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象。

以上就是是小编整理的关于半导体纯水设备工艺流程讲解，如想了解关于更多相关的纯水设备，可以登录创联净化官网查询，创联净化专注水处理设备17年，如果您有需求请联系我们，集研发、生产、安装、售后一站式服务，打造您身边可靠的水处理工程服务商，联系人：厉经理 13814806794