半导体行业晶圆清洗高纯水设备，废水零排放项目

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【摘要】：

半导体废水零排放解决方案可用于酸碱废水、有机废水、氨氮废水、含氟废水等多种废水。

半导体行业晶圆生产废水排放量大，污染物种类繁多，成分复杂，特别是溶解固体和悬浮固体在含量、酸碱度和金属杂质等方面存在差异。由于国家对环境保护的要求越来越高，半导体行业晶圆逐渐开始采用高纯水设备、零排放技术来解决废水问题，那么高纯水设备、零排放技术的优势在哪里呢？

高纯水设备、零排放技术项目设计说明：
1、纯水系统主要包括预处理系统、RO系统、EDI系统、抛光处理系统以及远程控制系统、监控系统、水量计量系统和其他辅助系统。
2、采用中央监控系统控制纯水系统的运行操作，控制模式采用PLC+上位机，采用CPU和服务器无缝冗余。
3、不使用国家明令禁止的产品;对化学品的使用应有泄露应急措施。
4、各级设备应具有余量、备用。
5、系统自动运行，同时也可以切换为手动。
6、采用节约用能设计。
7、超纯水泵、EDI增压泵、RO高压泵、UF反洗泵、RO供给水泵采用变频器控制。
8、原水直接来源于业主自行建设的水箱，不再单独建设原水箱。

高纯水设备、零排放技术工艺流程：
1、预处理系统：预处理系统作为反渗透的前处理，主要目的是去除原水中的悬浮物、胶体、色度、浊度、有机物、硬度等妨碍后续反渗透运行的杂质。
2、反渗透系统：反渗透系统承担了主要的脱盐任务。
3、精处理系统：精处理系统主要功能是为了进一步除盐和去除水中的残余的TOC、溶解氧等。
4、机台弱电系统：由UPS供电，可切换市电和电池逆变两种供电模式，额定功率满足控制系统负荷要求，切断电源独立负载控制系统时续航时间不小于30分钟，电池质保期3年以上。

高纯水设备、零排放技术特点：

化学品需求少或零、淤泥产量低、臭气产生量较低、能量需求低、占地紧凑、满足严格的废水质量要求、自动化操作等等。