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半导体用超纯水设备

一、半导体用超纯水设备应用广泛，工业制造领域只要涉及到水的大部分需要进行过滤净化处理，一般工业用水要求是去离子水，也是除盐水。工业纯水设备满足这些使用需求，而且也是经济实惠的纯水制取方法。

 二、半导体用超纯水设备系统组成

预处理：一般包括原水泵、加药装置、石英砂过滤器、活性炭过滤器、精密过滤器等。其主要作用是降低原水的污染指数和余氯等其他杂质，达到反渗透的进水要求。半导体用超纯水设备预处理系统的设备配置应该根据原水的具体情况而定。

反渗透：主要包括多级高压泵、反渗透膜元件、膜壳(压力容器)、支架等组成。其主要作用是去除水中的杂质，使出水满足使用要求。

后处理：半导体用超纯水设备是在反渗透不能满足出水要求的情况下增加的配置。主要包括阴床、阳床、混床、杀菌、超滤、EDI等其中的一种或者多种设备。后处理系统能把反渗透的出水水质更好的提高，使之满足使用要求。

 三、半导体用超纯水设备常见故障分析如下：

1、在初始设计时选择高压泵的扬程偏低，在温度或进水水质发生变化时引起产水量达不到设计要求；

2、膜元件被氧化引起水通量增加及产水水质下降；

3、盐水密封圈倒置引起实际回收率过高而产生结垢及水质下降现象；

4、盐水密封圈破损引起实际回收率过高而产生结垢即水质下降现象；

5、O型圈破损引起产水水质下降

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