半导体用超纯水设备—50t/h二级RO+EDI+抛光混床,苏州市创联净化设备有限公司

半导体行业产品清洗用超纯水设备

在半导体用超纯水设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水出水水质电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有高的性价比和设备可靠性。

半导体行业用超纯水水质标准：

我公司半导体行业用超纯水出水水质符合纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）。

半导体行业用超纯水设备对水质的要求：

新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

半导体行业超纯水设备应用场合：

· 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

· 电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

· 显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

· 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

· 液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

· 晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

· 集成电路生产中高纯水清洗硅片

· 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

· LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

· 显像管、萤光粉生产

· 半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

· 超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

· 实验室和中试车间

· 汽车、家电表面抛光处理

· 光电产品、其他高科技精微产品