半导体行业中的超纯水，又名UP水，主要是半导体原材料生产加工、检测和半导体器件的制备用水。电子元器件对超纯水使用水质要求高。市场环境变化使得元器件尺寸缩小与精细度上升，使得超纯水水质与水量的技术指标不断提升。

半导体工艺用水被称作超纯水，他与日常生活用水的主要区别在于电阻率，自来水是会导电的，而超纯水的电阻率可高达18MΩ·cm，几近绝缘。那么电阻率这么高的超纯水是如何制备出来的呢？

自然界中不存在超纯水，要得到这种超纯水就需要通过各种各样的工艺去制备。超纯水系统包括预处理过滤部分、RO反渗透技术、EDI连续电解除盐技术和抛光混床工艺等，通过这些工艺的灵活搭配，可以制备出15兆欧－18兆欧的半导体工艺用水，满足半导体行业的大量用水需求。

自来水进入原水箱，通过原水泵增压，经砂滤、碳滤、软化树脂、保安过滤器，到达反渗透单元，经两级反渗透过滤进入EDI单元，达到电阻率15MΩ·cm（25℃）进入氮封水箱，再经TOC脱除、抛光混床、精密过滤器达到电阻率18MΩ·cm接入纯水供水管，到达使用点。

超纯水设备主要包括以下三个阶段，即初步吸附过滤阶段、反渗透净化阶段和树脂离子交换阶段。其中，离子交换是将水中的正离子与离子交换树脂中的H+离子交换，水中的负离子与离子交换树脂中的OH-离子交换，从而达到纯化水的目的。