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半导体高纯水指标只要电阻率达到18兆欧就可以了吗?

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【摘要】:
高纯水设备出水电阻率达到18兆欧就可以了?答案肯定是不可以的。  半导体和集成电路生产中所用到的高纯水不紧要求电阻率达到18.25兆欧以上,同时对各种金属离子都有比较苛刻的要求,比如说锌、铁和铜离子,都要求达到0.05ppb等级,美国标准更严格,要达到0.02ppb。  电子级高纯水同时对细菌要求比较高细菌要求<5/1000CFU/ml,而制药行业纯化水标准是100CFU/ml,可以看出电子级高纯

   高纯水设备出水电阻率达到18兆欧就可以了?答案肯定是不可以的。

   半导体和集成电路生产中所用到的高纯水不紧要求电阻率达到18.25兆欧以上,同时对各种金属离子都有比较苛刻的要求,比如说锌、铁和铜离子,都要求达到0.05ppb等级,美国标准更严格,要达到0.02ppb。

   电子级高纯水同时对细菌要求比较高 细菌要求<5/1000CFU/ml,而制药行业纯化水标准是100CFU/ml,可以看出电子级高纯水标准要求是要无数倍的。

   同时TOC、颗粒物、二氧化硅、溶解氧都有很严格的要求。详情请见上篇文章,高纯水标准对比。

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