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微电子纯水设备

微电子纯水设备

精细化工-30t/h超滤+反渗透纯水设备

概要:
纯水设备广泛应用于超纯材料和超纯化学试剂石英、硅材料生产、加工、提纯电子半导体、集成电路板上用到的化工材料 。

锂电池新材料15t/h高纯水设备

概要:
锂电池新材料用高纯水设备工艺:原水→原水箱→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→阻垢剂加药系统/还原剂加药系统→保安过滤器→中间水箱→高压泵1→反渗透装置1→中间水箱→PH调节装置→高压泵2→反渗透装置2→纯水箱→输送泵→过滤器→EDI电除盐系统→抛光混床系统→高纯水箱→高纯水输送泵→用水点

5t/h电子化学品用超纯水设备

概要:
该套装置出水水质符合EW-I级(GB/T1144.6.1-1997 其中细菌个数≤10个/ml,总有机碳≤200μg/L)。设备EDI出水电阻率≤16MΩ.CM,设备流量≥5+2T/H(25℃),且PH值可在6.5-8.5范围内可调,抛光混床出水大于18.2 MΩ.CM,0.5微米颗粒小于50个/ml。

20t/h手机触控板电子级高纯水设备

概要:
本项目为中建材凯盛科技股份有限公司为手机触控板配套项目清洗用超纯水设备,采用目前绿色环保工艺,反渗透+EDI+精制抛光混床工艺制取超纯水。

15t/h功率半导体超纯水设备

概要:
功率半导体芯片生产用水,满足硅片、刻蚀、去胶清洗用水,减薄清洗用水光刻清洗用水;

半导体芯片用12t/h超纯水设备

概要:
12t/h半导体用超纯水设备主要应用于半导体制程中各种冲洗用水,对水的纯度要求比较高,涉及到电阻率、溶解氧、TOC、二氧化硅、微生物等各种指标,要求比较严苛。

电子陶瓷新材料用20t/h纯水设备

概要:
电子级纳米新材料、高导热氮化铝陶瓷基板、陶瓷金属化产品和各种电子陶瓷元器件,在生产过程中将用到大量的纯水,一般根据产品的纯度不同,所需求的纯水设备的纯净度也不同,一般分为普通纯水和高纯水设备两种。该系列产品覆盖功率半导体模块、汽车电子、太阳能和风能、大功率LED等应用领域。

8t/h锂电池新材料用高纯水设备

概要:
该纯水设备为某国内知名的锂电池新材料生产企业用纯水设备,主要应用于锂电池隔膜生产中用水。 本系统采用二组4t/h纯水设备并联的方式,充分考虑到检修和保养时,可以保证单套供水能力。所配置水泵两套可以自由切换。 设备出水电阻率按照15兆欧设计,水中的重金属离子浓度可以去除到PPB等级。该设备同时可以满足磷酸铁锂、三元等锂电池生产其它环节用水。

15t/h电子级高纯水设备,出水18.2兆欧

概要:
纯水设备采用二级反渗透+EDI处理工艺,出水稳定达到电子级超纯水标准,电阻率可以达到18.2兆欧,使用于电子半导体工艺、太阳能光伏、芯片、集成电路生产用水。 一、设计范围及原则 1、进入纯水站的水源为自来水,根据客户地区的水质情况,其变化系数K≤1.5,处理系统排放的浓废水可直接排入市政综合管网。 2、纯水处理设施具有较大的适应性、应急性,可以满足水质及水量的变化,并考虑在突发或事故状态下的各种应急用水。 3、采用工艺具有可靠性,运行稳定,运转费用低,管理维护量特别小,反渗透系统采用PLC集成电路控制,自动化程度高。 4、系统管道除反渗透装置高压部分外,均采用符合标准的UPVC材质。 5、系统处理过程中选用工作泵均为多级离心泵,具有启动及运转功率小,无死角,噪音低,工作稳定等特点。 6、本工程设计范围为接入纯水处理站的给水管道起纯水出口为止的整个处理工艺、基础、电气等各专业的设计。 二、设计原水水质及水量要求 1、要求系统进水量≥22m³/h,才能确保RO产水量≥15m³/h。 2、原水含盐量较稳定,变化系数K≤1.2。 三、用水要求 1.系统产水量Q≥15m³/H(20℃) 2.出水水质:电阻率≥18.2MΩ.cm 3.供水方式:连续供水 4.控制方式:触摸屏集成电路PLC控制,各水泵及水箱液位连锁保护。 5.管阀门件:高压部分为不锈钢管道,其它均为UPVC管道,终端供水系统采用日本积水洁净管。

50t/h电子级高纯水设备介绍

概要:
电子级高纯水设备采用全膜法制取高纯水,水质稳定18兆欧以上,具有自动化程度高,设备集成程度高,绿色环保,操作维护简便等特点。 ■主要用途: ※电子线路板生产制造用高纯水设备; ※半导体芯片晶元清洗用纯水设备; ※太阳能光伏(硅粉生产、单晶多晶生产、石英坩埚、多晶硅方舟、太阳能电池片生产)用电子级高纯水设备 ※锂电池新能源材料生产用去离子水设备 ※纳米和高纯度电子级材料生产用超纯水设备

20t/h纯水设备

概要:
20t/h纯水系统处理工艺流程图 原水→原水箱→原水泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→保安过滤器→高压泵→反渗透装置→纯水箱→用水点 注:原水采用自来水通过增压泵增压进入石英砂过滤器和活性炭过滤器,去除水中的悬浮物、胶体、有机物及余氯,过滤后的水通过高压泵增压进入反渗透系统,将水中的大部分盐分去除,以达到提纯目的,出水达到锅炉用水同时满足生活饮用水标准,出水水质优于国家生活饮用水标准。

电子级25t/h高纯水设备

概要:
电子级高纯水设备采用二级反渗透系统采用美国陶氏反渗透膜技术,自动制膜技术有效保证每支膜的水处理性能。I级反渗透采用BW30-400型号的反渗透膜,该膜具有脱盐率较高、操作压力较小,抗污染性能,膜的脱盐率可以达到99.7百分之;二级反渗透膜采用BW30-365系列膜,该膜广泛使用二级反渗透系统中。二级反渗透出水水质电导率可以达到4微西门子以下; EDI电除盐系统采用原装进口西门子模块,EDI作为绿色脱盐模式,具有以下优点:占地面积省、运行成本低、系统设计简单、水质稳定、安装维修简便、绿色环保,不需要酸碱再生、可实现连续生产。EDI出水电阻率可以达到15~17兆欧; 抛光混床系统采用上海树脂厂和罗门哈斯合资品牌抛光核级树脂,抛光混床作为制取超纯水的核心部件,经处理后出水可以达到18兆欧以上,满足微电子行业用水要求;

锂电池新材料用5t/h高纯水设备

概要:
锂电池新材料目前主流材料有三元、磷酸铁锂等材料,因生产过滤中保证产品质量的可靠性,需要采用高纯水进行配置,高纯水设备采用反渗透加EDI处理技术,可以将水中的离子去除率达到99.99%以上,金属离子可以降的非常低。  反渗透设备技术反渗透是一种借助选择透过(半透过)性膜的功能,以压力为推动力的膜分离技术膜元件,由反渗透膜导流布和中心管等制作而成,将多根RO元件装入不锈钢耐压壳体内,组成RO组件。本工

6t/h光学镜片清洗纯水设备

概要:
光学镜片广泛应用于手机、激光器、投影仪、摄像机等电子产品中,在镜片清洗过程中要用到高纯水设备,如果水的纯净度不高,水中有金属离子、颗粒物等,镜片烘干后,将在镜片表面留下水渍,从而影响产品性能。  高纯水设备目前均采用世界先进工艺制取,应用各种膜分离技术和电除盐技术,从而来满足高纯水的制取。常用的工艺有如下几种:  1、石英砂过滤+活性炭过滤器+软化器+保安过滤器+高压泵+二级反渗透系统+EDI

单晶硅多晶硅用60t/h高纯水设备

概要:
单晶硅和多晶硅切片清洗会用到大量的去离子水对硅片清洗,水中的金属离子会直接影响产品性能,苏州市创联净化设备有限公司是一家十几年从事高纯水设备设计制造安装服务的专业性公司,产品广泛应用于各种微电子行业用高纯水,如半导体生产、电子二级管生产、电子线路板生产、新能源电池生产、铝箔腐蚀化成生产用高纯水设备。在单晶和多晶硅生产过程中从原料高纯硅粉生产、拉晶、多晶硅方舟、石英坩埚生产、硅片切割、电池片生产、半

电子级铝箔腐蚀箔化成箔用高纯水设备

概要:
腐蚀和化成工艺段会用到大量的去离子水对铝箔清洗,水中的金属离子会直接影响产品性能,苏州市创联净化设备有限公司是一家十几年从事高纯水设备设计制造安装服务的专业性公司,产品广泛应用于各种微电子行业用高纯水,如半导体生产、电子二级管生产、电子线路板生产、新能源电池生产、铝箔腐蚀化成生产用高纯水设备。 目前一般用高纯水设备的水质普遍要求在10兆欧以上,有的要求要达到15-18兆欧,基本上会采用二级反
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