热门关键词
热门关键词:工业纯水设备 | 制药纯化水设备 | 去离子水设备 | 废水处理设备 | 纯化水设备 | 去离子水设备 | 高纯水设备 | 纯水设备 | 中水回用设备
二维码
手机端 | 微信公众号 |
底部地址
地址:江苏省苏州市相城区渭塘镇通成路199号 电话:0512-65782099 69202308 传真:0512-65783099 邮箱:cl@szcljh.cn
底部导航
友情链接
地址版权
工业纯水设备banner
表面处理纯水设备
表面处理纯水设备
概要信息:
表面处理行业纯水设备用途:
■电镀(镀金、镀银、镀铬、塑料电镀等)酸洗、脱脂、电镀后清洗用水
■玻璃镀膜用水、超声波、超音波清洗用水
■涂装前处理脱脂、酸洗清洗用水
■铝氧化前处理脱脂、酸洗清洗用水
■磷化(陶化工艺)脱脂、酸洗清洗用水
纯水设备
概要信息:
纯净水(纯水设备),又称纯净水,是指作为原水的符合饮用水卫生标准的水,密封在容器中,无色透明,可以通过电渗析器、离子交换器、反渗透、蒸馏等适当的处理方法直接饮用。
125t/h纯水设备
概要信息:
超滤膜是利用纳米级的物理孔径在一定的压力作用下,对料液中的物质进行分离、净化、纯化和浓缩的一个纯物理过程,它不引起分离物质化学性质的变化,是一种非常放心和可靠的过滤和浓缩方法。
纯水设备厂家
概要信息:
许多安装超纯水设备的企业和单位在冷空气的袭击下也发生了事故。如果不注意保养,很容易爆裂、漏气或堵塞。
20t/h纯水设备
概要信息:
纯水设备应用于超纯材料和超纯化学试剂
石英、硅材料生产、加工、提纯
电子半导体、集成电路板上用到的化工材料
30t/h去离子水设备
概要信息:
纯水设备的主要特点
▼采用进口反渗透膜,脱盐率高,使用寿命长,运行成本低廉,产水水质高而稳定;
▼在线水质监测控制,实时监测水质变化,保障水质;
▼全自动电控程序,还可选配触摸屏操作,使用方便,操作简单、方便;
6t/h表面处理行业纯水设备
概要信息:
原水→原水箱→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→钠离子软化器→保安过滤器→高压泵→反渗透装置→纯水箱→输送泵→用水点
精细化工-30t/h超滤+反渗透纯水设备
概要信息:
纯水设备广泛应用于超纯材料和超纯化学试剂石英、硅材料生产、加工、提纯电子半导体、集成电路板上用到的化工材料 。
前处理清洗用纯水设备应该如何选择?
概要信息:
目前对于金属件或各种部件需要表面处理的部件,一般均采用如下几种方式:涂装、电泳、磷化(陶化)、电镀等工艺。这些工艺前段要设置前处理工艺段,包括但不限于酸洗、脱脂、表调等工艺。各个工艺在使用时一般需要自来水洗或纯水洗,纯水洗一般作为后面一道工序。所以纯水的选择会直接影响产品品质,本文就如何选择纯水设备提供一些建议。
流量确认:流量一般根据产线的生产工艺决定,一般采用吨/时或吨/天来确定。为了节省水的用量,一般采用溢流回流的方式来进行。
水质确认:水质一般按照纯水标准来,电导率10微西门子、电导率5微西门子、电导率0.2微西门子三个等级。
工艺确认:目前工艺普遍采用反渗透处理工艺,分为1级和二级反渗透,如果需要去离子水,要在后级增加电除盐系统。
节水节能工艺确认:因清洗产生的水会变为废水,为了节约水的用量。这部分清洗废水一般会经过废水处理后,再回用到生产工艺段。
8t/h锂电池新材料用高纯水设备
概要信息:
该纯水设备为某国内知名的锂电池新材料生产企业用纯水设备,主要应用于锂电池隔膜生产中用水。
本系统采用二组4t/h纯水设备并联的方式,充分考虑到检修和保养时,可以保证单套供水能力。所配置水泵两套可以自由切换。
设备出水电阻率按照15兆欧设计,水中的重金属离子浓度可以去除到PPB等级。该设备同时可以满足磷酸铁锂、三元等锂电池生产其它环节用水。
15t/h电子级高纯水设备,出水18.2兆欧
概要信息:
纯水设备采用二级反渗透+EDI处理工艺,出水稳定达到电子级超纯水标准,电阻率可以达到18.2兆欧,使用于电子半导体工艺、太阳能光伏、芯片、集成电路生产用水。
一、设计范围及原则
1、进入纯水站的水源为自来水,根据客户地区的水质情况,其变化系数K≤1.5,处理系统排放的浓废水可直接排入市政综合管网。
2、纯水处理设施具有较大的适应性、应急性,可以满足水质及水量的变化,并考虑在突发或事故状态下的各种应急用水。
3、采用工艺具有可靠性,运行稳定,运转费用低,管理维护量特别小,反渗透系统采用PLC集成电路控制,自动化程度高。
4、系统管道除反渗透装置高压部分外,均采用符合标准的UPVC材质。
5、系统处理过程中选用工作泵均为多级离心泵,具有启动及运转功率小,无死角,噪音低,工作稳定等特点。
6、本工程设计范围为接入纯水处理站的给水管道起纯水出口为止的整个处理工艺、基础、电气等各专业的设计。
二、设计原水水质及水量要求
1、要求系统进水量≥22m³/h,才能确保RO产水量≥15m³/h。
2、原水含盐量较稳定,变化系数K≤1.2。
三、用水要求
1.系统产水量Q≥15m³/H(20℃)
2.出水水质:电阻率≥18.2MΩ.cm
3.供水方式:连续供水
4.控制方式:触摸屏集成电路PLC控制,各水泵及水箱液位连锁保护。
5.管阀门件:高压部分为不锈钢管道,其它均为UPVC管道,终端供水系统采用日本积水洁净管。
50t/h电子级高纯水设备介绍
概要信息:
电子级高纯水设备采用全膜法制取高纯水,水质稳定18兆欧以上,具有自动化程度高,设备集成程度高,绿色环保,操作维护简便等特点。
■主要用途:
※电子线路板生产制造用高纯水设备;
※半导体芯片晶元清洗用纯水设备;
※太阳能光伏(硅粉生产、单晶多晶生产、石英坩埚、多晶硅方舟、太阳能电池片生产)用电子级高纯水设备
※锂电池新能源材料生产用去离子水设备
※纳米和高纯度电子级材料生产用超纯水设备
上一页
1
2
下一页