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15t/h电子级超纯水设备-线路板纯水用

产品名称

15t/h电子级超纯水设备-线路板纯水用

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描述

微电子工业用纯水设备

       PCB线路板用纯水设备统称线路板清洗设备,PCB板纯水设备,PCB纯水机,因为线路板生产过程中常用到的电镀铜,锡,镍金;化学镀镍金;PTH/黑孔;表面处理蚀刻等生产过程都需要用到不同要求的纯水,再者线路板生产过程中使用的药水不同,生产工艺流程的差异,对纯水的品质要求也不一样。

 

   纯水设备还可以应用到其它电子产品清洗用水,用途和参考标准:

用途Applications

用水指标Water Indicators

参考标准Reference standard

单晶硅、多晶硅、太阳能电池、氧化铝坩埚、光伏玻璃等生产、半导体芯片相关、半导体设备清洗

 

电阻率15 ~18.25 MΩ.CM

 

我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997

美国半导体工业用纯水指标

单晶硅半导体集成电路块,显像管、玻壳、液晶显示器等制造工业

 

电阻率15 ~18.25 MΩ.CM

 

美国半导体工业用纯水指标

我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997

光学材料清洗用水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水

 

电阻率 10 ~17 MΩ.CM

 

我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997 

美国半导体工业用纯水指标

蓄电池、锂电池、锌锰电池生产

 

电阻率5 ~10 MΩ.CM

 

我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997

有色金属、贵金属冶炼用水、纳米级新材料生产用水、航空新材料生产用水、ITO导电玻璃制造用水、电子级无尘布生产用水

电阻率15 ~18.25 MΩ.CM

 

我国电子级水质技术指标,GB11446-1-1997

 

 

美国半导体工业用纯水指标

 

    

主要工艺流程和出水指标:

 

   预处理+二级反渗透+EDI(电阻率≥15MΩ.CM

   预处理+二级反渗透+脱气膜+EDI +抛光混床(电阻率≥18.25MΩ.CM

   详细工艺需根据原水及用水要求设计情况进行设计

     

纯水设备的主要特点 

 

 ▼结合电子工业用水连续生产的特性,采用了膜法处理工艺(UF+RO+EDI)完成高纯水的制备工作;  

 ▼对于电子行业用水的特性,增强了对水中二氧化硅、重金属和有机碳的脱除;

采用了氮封水箱解决了电子工业用水要求较高,水的储存容易污染问题;

采用进口反渗透膜,脱盐率高,使用寿命长,运行成本低廉,产水水质高而稳定

  在线水质监测控制,实时监测水质变化,保障水质安全;

  全自动电控程序,还可选配触摸屏操作,使用方便,操作简单、安全;

  切合当地水质的个性化设计,设想周到的堆叠式设计,占地面积小满足客户需求。

   ▼运行费用及维修成本低自动运行,可以实现无人化管理操作

 

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