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微电子行业超纯水设备特点

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微电子行业超纯水设备特点

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描述

超纯水设备用途:

 

■半导体行业:用于晶元6~12寸切割、清洗、再生、封测用水、半导体设备清洗、电子级无尘布无尘服清洗。

■太阳能光伏行业:单晶硅、多晶硅切片清洗、太阳能电池、石英坩埚、多晶硅方舟、光伏玻璃、高纯硅粉

■LCD、LED、OLED生产清洗用水,光学摄像头清洗,光学材料清洗,导电玻璃清洗; ■半导体集成电路板,线路板生产清洗用超纯水;

■锂电池材料(磷酸铁锂、三元材料、锂电池隔膜)、蓄电池、锌锰电池生产用水

■电子级超纯化学试剂用纯水,纳米级电子陶瓷材料纯水、尖端磁性材料用纯水、有色金属、贵金属冶炼用水、航空新材料生产用水、电容器材料腐蚀化成工艺用水。

 

超纯水设备参考标准:

 

电子工业纯水系统设计规范                        GB50685-2011

中国电子级水质技术指标                          GB/T11446.1-2013

电子级水测试方法通则                            GB/T 11446.3-2013

电子级水电阻率的测试方法                        GB/T11446.4-2013

电子级水中痕量金属的原子吸收分光光度测试方法    GB/T114465-2013

电子级水中痕量阴离子的离子色谱测试方法          GB/T11446.72013

电子级水中总有机碳的测试方法                    GB/T 11446.8-2013

电子级水中微粒的仪器测试方法                    GB/T 11446.9 -2013

电子级水细菌总数的滤膜培养测试方法              GB/T 11446.10-2013

美国半导体工业用纯水指标

 

超纯水设备常用工艺:

 

 

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