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20t/h纯水设备

产品名称

20t/h纯水设备

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描述

应用领域和指标要求参考    

用途

用水指标

参考标准

超纯材料和超纯化学试剂

石英、硅材料生产、加工、提纯

电子半导体、集成电路板上用到的化工材料

电阻率15 ~18.25 MΩ.CM

 

我国电子级水质技术指标

美国半导体工业用纯水指标

普通化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程

电导率≤10μs/CM

 

饮用纯净水标准(GB17324-98

 

      

主要工艺流程和出水指标:

※ 预处理+1级反渗透(电导率≤10μs/CM   

※ 预处理+二级反渗透(电导率≤2μs/CM

※ 预处理+反渗透+离子交换器(电阻率≥15MΩ.CM

※ 预处理+1级反渗透+EDI(电阻率≥15MΩ.CM

  • 预处理+二级反渗透+EDI +抛光混床(电阻率≥18.25MΩ.CM

详细工艺需根据原水设计情况进行设计

     

纯水设备的主要特点 

   采用进口反渗透膜,脱盐率高,使用寿命长,运行成本低廉,产水水质高而稳定;
   在线水质监测控制,实时监测水质变化,保障水质;
   全自动电控程序,还可选配触摸屏操作,使用方便,操作简单、方便;
   切合当地水质的个性化设计,设想周到的堆叠式设计,占地面积小满足需求。

   与传统工艺相比具有运行成本低的优点(离子交换器的再生周期大大延长),与工艺相比具有造价低,耗材易得的优点; 

   运行费用及维修成本低全自动运行,实现无人化管理操作

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