体外诊断试剂用纯化水设备适用于体外诊断试剂生产，医学实验室一般性试剂配制，仪器和器械清洗用水。

精细化工纯水设备应用于农业生产、化妆品生产、高纯化学试剂用纯水，纯水设备采用进口反渗透技术，适应于各类型原水水质（根据原水情况不同，预处理调整）。

纯化水系统原理为：预处理（巴氏杀菌）+双级反渗透+EDI装置+灭菌系统+储存输送系统（巴氏杀菌），最终产水质量符合体中国药典2015版纯化水法规要求，该体系主要包括原水箱、预过滤器、RO反渗透膜、EDI装置，储存以及各种泵和输送系统组成。

PUW纯化水设备工艺： 原水箱---原水泵--- -多介质过滤器（巴氏消毒）-----活性碳过滤器（巴氏消毒）---阻垢装置----除氯装置----保安过滤器----- 一级RO增压泵-----一级RO反渗透----中间水箱----二级RO增压泵----二级RO反渗透----EDI装置----纯化水箱（巴氏消毒）----卫生输送泵--—UV灭菌—用水点（循环回路含控制）---回水流量控制---回水电导控制---回至纯化水箱

原水→原水箱→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→钠离子软化器→保安过滤器→高压泵→反渗透装置→纯水箱→输送泵→用水点

纳滤 是一种介于反渗透和超滤之间的压力驱动膜分离过程，纳滤膜的孔径范围在几个纳米左右。与其他压力驱动型膜分离过程相比，出现较晚。它的出现可追溯到70年代末J.E. Cadotte的NS-3 0 0膜的研究，之后，纳滤发展得很快，膜组器于80年代中期商品化。纳滤膜大多从反渗透膜衍化而来，如CA、CTA膜、芳族聚酰胺复合膜和磺化聚醚砜膜等。纳滤（NF）用于将相对分子质量较小的物质，如无机盐或葡萄糖、蔗糖等小分子有机物从溶剂中分离出来。纳滤又称为低压反渗透，是膜分离技术的一种新兴领域，其分离性能介于反渗透和超滤之间，允许一些无机盐和某些溶剂透过膜，从而达到分离的效果。

纯水设备广泛应用于超纯材料和超纯化学试剂石英、硅材料生产、加工、提纯电子半导体、集成电路板上用到的化工材料 。

纯化水设备的主要特点▼因地制宜，根据使用点原水情况的不同，在满足GMP标准要求的前提下，确定性价比较高的处理工艺；▼设计充分考虑了热源和较难去除离子的处理方案，确保满足GMP纯化水标准要求；▼EDI系统的成熟应用，使系统出水水质更高，更稳定，同时绿色环保；▼采用进口反渗透膜，脱盐率高，使用寿命长，运行成本低廉，产水水质高而稳定；▼为用户提供设备所需的DQ、FAT、SAT、IQ、PQ、OQ验证文件资料。▼创联高配型纯化水设备系统全部采用一面焊两面的成型工艺，水质分等级不同，分别为手动焊接和自动焊接工艺，与纯化水接触采用自动焊接，焊完后钝化处理，提供内窥镜照片，并附有检测报告。

应用范围： 保健食品、保健饮料、保健酒、保健药品用纯化水设备执行标准： GMP2015版纯化水标准 处理工艺 原水箱----原水增压泵----石英砂过滤器----保安过滤器----软化器---保安过滤器----高压泵----反渗透系统----中间水箱----二级高压泵---二级反渗透系统----纯化水箱----纯化水输送泵----灭菌系统----循环管道用水点。

锂电池新材料用高纯水设备工艺：原水→原水箱→增压泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→阻垢剂加药系统/还原剂加药系统→保安过滤器→中间水箱→高压泵1→反渗透装置1→中间水箱→PH调节装置→高压泵2→反渗透装置2→纯水箱→输送泵→过滤器→EDI电除盐系统→抛光混床系统→高纯水箱→高纯水输送泵→用水点

该套装置出水水质符合EW-I级（GB/T1144.6.1-1997 其中细菌个数≤10个/ml,总有机碳≤200μg/L）。设备EDI出水电阻率≤16MΩ.CM，设备流量≥5+2T/H(25℃)，且PH值可在6.5-8.5范围内可调，抛光混床出水大于18.2 MΩ.CM,0.5微米颗粒小于50个/ml。

CL-CHS-C系列医疗器械纯化水设备采用二级反渗透+EDI工艺制取纯化水，主要有如下特点： 1、应用参考范围：可以适用于一类、二类和三类医疗器械用纯化水，满足体外诊断试剂用纯化水标准； 2、系统灭菌方式采用紫外线杀菌+臭氧灭菌相结合方式，配套有在线化学清洗灭菌设备。根据客户需要可以定制巴式灭菌方式，同时对于活性炭、RO膜和EDI系统设计巴式灭菌方式。 3、系统优先焊接方式采用自动焊接。 4、对于流量计选型：有性价比高的不锈钢金属浮子流量计、金属管浮子流量计、不锈钢外壳流量计等供选择。

创联净化CL-CHS-A系列纯化水设备应用于医疗器械生产用水，主要工艺为二级反渗透工艺，可以应用于一类和二类医疗器械用水，出水满足GMP2015版纯化水标准。

本项目为中建材凯盛科技股份有限公司为手机触控板配套项目清洗用超纯水设备，采用目前绿色环保工艺，反渗透+EDI+精制抛光混床工艺制取超纯水。

功率半导体芯片生产用水，满足硅片、刻蚀、去胶清洗用水，减薄清洗用水光刻清洗用水；

12t/h半导体用超纯水设备主要应用于半导体制程中各种冲洗用水，对水的纯度要求比较高，涉及到电阻率、溶解氧、TOC、二氧化硅、微生物等各种指标，要求比较严苛。