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半导体器件清洗废水处理方案

产品名称

半导体器件清洗废水处理方案

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描述

半导体器件废水处理方案

 

 
 
 

一、项目简介

 

 某半导体器件生产废水情况如下:含氟清洗废水、研磨清洗废水、有机废水(因产生量较少,浓度高,委托第三方处置单位处置)、酸碱废水,废水性质主要为清洗废水,浓度较低,容易处理。废水经过系统处理后达到国家污水综合排放标准级标准和纳管排放。

 
 
 

二、设计技术规范及相关标准

 
本污水处理项目的设计,施工与安装严格执行国家的专业技术规范与标准,其主要规范与标准如下:
 
●《污水综合排放标准》                  GB8978-1996标准
 
●《钢结构设计规范》                   GB500172017   
 
《固定式钢梯和平台要求》               GB 4053—2009
 
●《机械设备安装工程施工及验收规范》        GB50231-2009
 
●《现场设备、工业管道焊接施工及验收规范》     GB50236-2011
 
●《电力装置的继电保护和自动装置设计规范》     GBT50062-2008
 
●《电气装置施工及验收规范》              GB-50254-96
 
●《分散型控制系统工程设计规范》           HGT-20573-2012
 
●《工业与民用供配电系统设计规范》          GB-50052-2009
 
●《低压配电装置及线路设计规范》           GB50054-2011  
 
 
 

三、项目由来

 
该厂区主要废水生产废水来源于以下:
 

3.1、含氟清洗废水及处理单元预估出水情况

处理工艺

项目

水量(t/a)

pH

COD(mg/l)

SS(mg/l)

F-(mg/l)

氯化物(mg/l)

一级反应沉淀池

进水

11520

3-4

50

25

300

30

出水

11520

4-5

40

17.5

60

30

去除效率%

-

/

20

30

80

/

二级反应沉淀池

进水

11520

4-5

40

17.5

60

30

出水

11520

5-6

32

7

12

30

去除效率%

-

/

20

60

80

/

pH调节池

进水

11520

5-6

32

7

12

30

出水

11520

6-9

32

7

12

30

 
 
 

3.2、研磨清洗废水及处理单元预估出水情况

处理工艺

项目

水量(t/a)

pH

COD(mg/l)

SS(mg/l)

反应沉淀

进水

3840

6-9

100

800

出水

3840

7-10

100

200

去除效率%

-

/

0

75

pH调节池

进水

3840

7-10

100

200

出水

3840

6-9

100

200

 
 
 
3.3、含有机物清洗废水
 
有机清洗废水排放量较少,仅为144m3/a,经现场收集后委托有资质单位处理处置。
 
 
 

 

3.4、酸碱废水及处理单元预估出水情况

处理工艺

项目

水量(t/d)

pH

COD

SS

氨氮

总氮

总磷

硫酸盐

氯化物

一级反应沉淀

进水

77220

4-7

60

200

15

40

10

800

70

出水

77220

5-8

48

30

15

36

5

400

70

去除效率%

/

/

20

85

/

10

50

50

/

二级中和

进水

77220

5-8

48

30

15

36

5

400

70

出水

77220

6-9

43

30

15

36

5

400

70

去除效率%

/

/

10

/

/

/

/

/

/

pH调节池

进水

77220

6-9

43

30

15

36

5

400

70

出水

77220

6-9

43

30

15

36

5

400

70

 
 经详细了解,该废水主要污染物为PHSS值,废水性质简单,水质较稳定,未见明显复杂成分。经过化学调整PH和混凝沉淀后,可以保证完全达标。
 
 
 
 
 
 

四.污水处理工程建设规模及处理程度

 

4.1处理规模(按照环评意见,每年工作日330天,24小时生产)

 

序号

废水名称

废水产生量

1

含氟清洗废水

10T/h

2

研磨清洗废水

5t/h

4

酸碱废水

40t/h

5

合计

55t/h

考虑到相关的不确定因素,本方案中设计略放余量,按照300t/d废水处理能力设计。
 
 
 

4.2处理出水指标

 
该生产清洗废水经处理后排放,参考标准为《污水综合排放标准》GB8978-1996级标准,具体监测因子及水质指标见下表。
 

污水排放标准  单位:mg/L pH值除外)

污染物名称

水质标准限值

标准来源

pH

69

《污水综合排放标准》

GB8978-1996三级标准

BOD5

300

COD

500

SS

400

NH3-H

25

动植物油

10

石油类

20

磷酸盐(以p计)

5

总氮

/

氨氮

25

氟化物

20

 

 
 
 

五、清洗废水处理工艺

 

5.1前处理清洗废水处理工艺方案的选择与确定(具体工艺参见工艺流程图)

 
5.1.1含氟废水工艺说明
 
  含氟清洗废水进入含氟清洗废水收集池后,经过PH调整、并添加氯化钙(CaCl2)产生无害的氟化钙(CaF2)沉淀,经投加混凝剂(PAC)、絮凝剂(PAM)进行混凝沉降,总除氟效率达到96%以上。含氟废水采用氯化钙作沉淀剂处理工艺,为成熟可靠工艺。
 
5.1.2研磨废水处理工艺说明
 
  研磨清洗废水进入研磨废水收集池均质后,通过提升泵提升,调整pH值后加入PACPAM充分反应后,进入斜管沉淀池,总除SS效率达到90%,处理后废水经pH调节槽进入排放系统,产生的污泥进入污泥槽,经污泥脱水形成泥饼,外运。
 
5.1.3酸碱废水处理工艺说明
 

  一般酸碱废水采用酸碱中和法处理,酸碱废水经管道收集后流入废水处理站的酸碱废水收集池;依次进入PH调整池,PH调整池中设计PH在线检测仪,根据PH情况,添加碱液后,再投加一定量的PAC和PAM絮凝剂后,进入沉淀池,防止SS值超标。

  经沉淀后的废水进入pH调节槽,经检测合格后(pH值达到6~9范围内)排入公司生产废水排水管道。       

  详情请咨询苏州市创联净化设备有限公司,专业提供工业纯水设备、废水处理设备、中水回用设备。产品涉及半导体微电子行业、汽车零部件表面处理、制药医疗器械、食品、精洗化工行业。

 

 

 

 

 

 

 

 

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