一、什么是半导体纯水设备？

传统的超纯水设备是电渗析、离子交换器(阳床、阴床、复床、混床)。新型半导体超纯水设备是EDI(连续电除盐技术)设备，可以有效的去除水中几乎全部的阴阳离子，出水电阻率可稳定在15MΩ.CM以上，连续运行、无化学污染、水的利用率高，在纯水设备工艺上有着强大的优势广阔的应用前景。

EDI+反渗透设备适合于工业高纯水，医用超纯水，电子反渗透纯水系统,电子工业用超纯水系统,电镀工业用超纯水系统,实验室用超纯水,食品饮料用超纯水,生物工程超纯水,制造业用超纯水。

在晶体管和集成电路的半导体行业生产中，超纯水主要用于清洗硅片，少量用于制备药液、硅氧化的水蒸气源、一些设备的冷却水、制备电镀液等。集成电路生产中80%的工序都需要用高纯水来清洗硅片，水质的好坏与集成电路产品的质量和生产量有很大关系。在电子元器件的生产中，超纯水主要用于清洗水和用于配制各种溶液、浆液，不同的电子元器件在生产中对纯水和水质的要求是不同的。

半导体纯水设备主要由预处理、反渗透、EDI模块和后处理装置组成，可以有效去除原水中的悬浮物、胶体、细菌、金属离子等杂质，出水电阻率可以达到18兆欧以上，完全满足半导体行业用水需求。

二、半导体纯水设备工艺

1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

2、预处理-一级反渗透-加药装置(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

3、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象

4、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制抛光混床-TOC分解器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(新工艺)

三、半导体纯水设备优势

1、整体化程度高、易于扩展、增加膜数量即可增加处理量。

2、自动化程度高，遇故障立即自停，具有自动保护功能。

3、膜组件为复合膜卷制而成，表现出高的溶质分离率和透过速率。

4、能耗低、水利用率高、运行成本低。

5、结构合理，占地面积少。

6、膜保护系统，在设备关机，淡化水可自动将膜面污染物冲洗干净，延长膜寿命。

7、系统无易损部件，无须大量维修，运行长期有效。

8、设备设计有膜清洗系统用阻垢系统。

半导体纯水设备性能优势明显，能够连续稳定的制备品质优良的超纯水，不会因为树脂再生而停止运行，超纯水装置结构设计相对靠紧，占地面积小，可以为企业节省很多空间。创联净化是专业的半导体纯水设备生产厂家，有需要咨询半导体纯水设备价格可联系厉经理 13814806794

原文标题：半导体纯水设备特点是什么？

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